飛凱材料は、集積回路分野で様々な高純度溶剤を提供しており、12インチウェハの製造におけるフォトレジストの洗浄、エッチング、および後処理プロセスに適用可能です。また、本社はカスタマイズされた製品サービスを提供しており、顧客の異なるニーズに応じて各種高純度試薬を開発できます。

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飛凱材料のDUV 底部抗反射層材料は、適切な厚さを組み合わせることで、Al、Cu、W、GaAsなどの基板の反射率を1%以下に低下させることができます。また、良好な充填能力を持ち、、様々なKrF 光刻プロセスに適しています。

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飛凱材料のKXシリーズG/H/Iラインの高解像度ポジティブレーザーレフトレックスは、各種の近紫外高解像度ステップスキャンレーザーレフトレックス装置に適しています。本社は適切なスピンコート工程とレーザーレフトレックスプロセスを選択することで、お客様のニーズに応じてカスタマイズできます。

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